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¿Aún tiene problemas para encontrar un empaque de vástago de válvula de emisiones fugitivas?

¿Aún tiene problemas para encontrar un empaque de vástago de válvula de emisiones fugitivas?

  • February 27. 2025

La reducción de las emisiones fugitivas se ha convertido en un objetivo de alta prioridad para casi todas las plantas e instalaciones de procesamiento en todo el mundo.

A menudo, la tecnología de las válvulas en sí tiene un impacto significativo en las emisiones fugitivas y, por lo tanto, en el coste del ciclo de vida del equipo.

Según la investigación, una de las mayores fuentes de emisiones fugitivas en las plantas está asociada con las válvulas. La mayor parte de las emisiones de las válvulas provienen de las empaquetadura del vástago de la válvula , cuya función es muy difícil de cumplir. Debe contener el proceso y evitar fugas, a la vez que permite que el vástago de la válvula se mueva libremente. Esto representa un desafío de diseño para cualquier válvula, pero es especialmente difícil con una válvula de vástago ascendente que sube y baja repetidamente.

Con cada carrera, la empaquetadura tiende a desgastarse a lo largo del vástago, permitiendo que escape el fluido del proceso. Esto es especialmente problemático en válvulas que también experimentan fluctuaciones de presión y temperatura. Existen diseños de empaquetadura mejorados que pueden reducir estas emisiones y prolongar los ciclos de mantenimiento, pero un diseño de vástago ascendente inherentemente dificulta un sellado consistente.

Para controlar mejor las emisiones fugitivas en los sistemas de válvulas API, el centro de I+D de JST ha desarrollado un diseño de empaquetadura para vástago de válvula compatible con válvulas API 6A y 6D. Este diseño ha sido verificado en el laboratorio de nuestro cliente.

JST El diseño ESY es un sello dinámico común para vástagos de válvulas de bola y de compuerta. Este sello, con diferentes anillos en V y anillos de soporte en forma de T, se puede utilizar en válvulas de emisiones fugitivas y cumple con los requisitos de la norma ISO-15848. Los materiales del sello ofrecen buena impermeabilidad al aire y son ideales para trabajar con petróleo, gas y otras condiciones ácidas, alcalinas o H₂S.

El sello consta de una camisa en forma de U, un resorte, un anillo en forma de V, un anillo antiextrusión en forma de C y un anillo de soporte en forma de T. En algunas aplicaciones especiales, la contrapresión puede alcanzar un cierto nivel y dañar el sello. El anillo de soporte en forma de T protege la camisa en forma de U y evita que se dañe el labio de esta.

Requisitos técnicos:

Presión de trabajo: ≤10000PSI;

Temperatura de trabajo: -100℃~+260℃;

Composición del material:

Chaqueta en forma de U: PTFE modificado (PE001): resistente a altas temperaturas y altas presiones, resistencia al desgaste, baja fluencia;

Anillo en forma de V: PTFE modificado (PE001): resistente a altas temperaturas y altas presiones, resistencia al desgaste, baja fluencia;

Anillo en forma de V: PTFE puro (P1020): coeficiente de fricción extremadamente bajo, fuerte hermeticidad, resistencia a temperaturas ultrabajas;

Anillo de soporte en forma de T: polieteretercetona (PK002): alta resistencia, resistencia a la corrosión, amplio rango de temperatura de aplicación;

Anillo en forma de C: polieteretercetona (PK002): alta resistencia, resistencia a la corrosión, amplio rango de temperatura de aplicación;

Resorte: resorte de aleación dorada, con muy buena resistencia a la corrosión, resistencia a altas y bajas temperaturas.

Características:

Resistente a altas temperaturas y altas presiones;

Compatible con productos químicos ácidos, alcalinos o H2S;

Baja fricción y baja tasa de fuga de gas.

Nota: Los materiales deben variar para diferentes aplicaciones. Si tiene requisitos especiales (presión, temperatura, velocidad, medios especiales, etc.) para Empaquetadura del vástago de la válvula de emisiones fugitivas No dude en contactarnos para obtener la solución de sellado.

© Derechos de autor: 2025 Guangzhou JST Seals Technology Co., Ltd. Reservados todos los derechos.

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